Katalog Vědecké knihovny v Olomouci, báze SVK01, záznam 000425352

Navigace: https://aleph22.vkol.cz/pub / svk01 / 00042xxxx / 0004253xx / 000425352.htm

Chcete-li získat tento dokument, vstupte přímo do katalogu. Získat dokument z katalogu.
If you want to get more information about the document, enter the online catalog. Get the item from catalog.

ISBN(Brož.)
MDT535
MDT541.6
MDT543.5
HZ-Osobní jménoGebauer, Sabine
Názvové údajeEntwicklung eines Photoresistsystems für die UV - Lithographie / Sabine Gebauer. [disertace]
Nakladatel.údajeErlangen : [vl. nákl.], 1999
Údaje fyz.popisu4, 131 s. : il., fot., tab., grafy.
Pozn.o disertaciDiss
Pozn.o bibliogr.Bibliogr. s. 128-130
Sigla,sign.vlastn.OLA001 794.413
Počet exemplářů1