Katalog Vědecké knihovny v Olomouci, báze SVK01, záznam 000425352
Navigace: https://aleph22.vkol.cz/pub / svk01 / 00042xxxx / 0004253xx / 000425352.htm
Chcete-li získat tento dokument, vstupte přímo do katalogu.
If you want to get more information about the document, enter the online catalog.
ISBN | (Brož.) |
MDT | 535 |
MDT | 541.6 |
MDT | 543.5 |
HZ-Osobní jméno | Gebauer, Sabine |
Názvové údaje | Entwicklung eines Photoresistsystems für die UV - Lithographie / Sabine Gebauer. [disertace] |
Nakladatel.údaje | Erlangen : [vl. nákl.], 1999 |
Údaje fyz.popisu | 4, 131 s. : il., fot., tab., grafy. |
Pozn.o disertaci | Diss |
Pozn.o bibliogr. | Bibliogr. s. 128-130 |
Sigla,sign.vlastn. | OLA001 794.413 |
Počet exemplářů | 1 |
Úvodní stránka katalogu.
O úroveň zpět..
© 2007 Ex Libris & Vědecká knihovna v Olomouci - webmaster.