Katalog Vědecké knihovny v Olomouci, báze SVK06, záznam 000288388

Navigace: http://aleph.vkol.cz/pub / svk06 / 00028xxxx / 0002883xx / 000288388.htm

Chcete-li získat tento dokument, vstupte přímo do katalogu. Získat dokument z katalogu.
If you want to get more information about the document, enter the online catalog. Get the item from catalog.

FormátBK
Návěští-----nam--22--------450-
Identif.č.záznamuupv000288388
Datum+čas posl.zpr.20031107
Všeob.údaje zprac.19980819d2001----km-y0czey0103----ba
Jazyk popisné jedn.cze
Země vydání dokum.CZ
Název a odpovědnostZařízení pro automatické provádění stabilizace chemické lázně Apparatus for maintaining a stable bath for an autodeposition composition by periodically separating particular metal ions from the composition
Nakladatelské údajePraha Úřad průmyslového vlastnictví 2001
Obecné poznámkyDatum oznámení zápisu: 19930126
Obecné poznámkyDatum podání přihlášky: 19980819
Obecné poznámkyDatum zveřejnění přihlášky: 20010613
Obecné poznámkyPrávo přednosti: US 1993/008956
Obecné poznámkyVyloučená přihláška: 62
Obecné poznámkyČíslo přihlášky: 1998-2638
Anotace, referát...(29) on a line extending between the second tank (T2) and that waste port (39) and a program controller (127) for controlling automatic operation of the apparatus. eng
Anotace, referátIn the present invention there is disclosed an apparatus for maintaining stability of a chemical bath inclusive of at least periodical removal of metal ions and contaminants from this chemical bath. The apparatus comprises a first tank (T1) containing deionized water, a second tank (T2) containing a chemical regenerate, a third tank (T4) containing a chemical bath; further an ion exchange column (29) containing ion exchange resin (30) for removing undesired metal ions from the chemical bath passing through this ion exchange column (29), a waste port (39) for discharging waste products from said system for further treatment of contaminants from said chemical bath, a first pump (P1) being controlled by a first pumping control signal, a second pump (P3) being controlled by a second pumping control signal, a first valve system (AV1, TV4) being arranged in series with the first pump (P1) and that ion exchange column (29) on a line extending between a third tank (T4) and the waste port (39), a second valve system (AV1, AV2) being arranged in series with the first pump (P1) and that ion exchange column (29) in a circuit extending from the third tank (T4) back to the same third tank, a third valve system (AV7, AV8, AV2) being arranged in series with the second pump (P3) and that ion exchange column (29) on a line extending between the first tank (T1) and the third tank (T4), a fourth valve system (AV7, AV6, AV4) being arranged in series with the second pump (P3) and that ion exchange column (29) for interconnecting the first tank (T1) and that waste port (39) forming thus a line for deionized water intended for rinsing the ion exchange column (29) in one direction, a fifth valve system (AV5, AV6, AV4) being arranged in series with the second pump (P3) and that ion exchange column... eng
Anotace, referátZařízení pro automatické provádění stabilizace chemické lázně včetně přinejmenším periodického odstraňování iontů kovů a nečistot z této chemické lázně obsahuje první tank (T1) obsahující deionizovanou vodu, druhý tank (T2) obsahující chemický regenerant, třetí tank (T4) obsahující chemickou lázeň; iontoměničovou kolonu (29) obsahující iontoměničovou pryskyřici (30) pro odstraňování nežádoucích iontů kovů z chemické lázně touto iontoměničovou kolonou (29) procházející, odpadní otvor (39) pro vypouštění odpadních produktů ze zařízení do příslušné úpravny, první čerpadlo (P1) ovládané prvním čerpacím řídicím signálem, druhé čerpadlo (P3) ovládané druhým čerpacím řídicím signálem, první soustavu (AV1, TV4) ventilů uspořádanou za sebou spolu s prvním čerpadlem (P1) a iontoměničovou kolonou (29) na vedení mezi třetím tankem (T4) a odpadním otvorem (39), druhou soustavu (AV1, AV2), ventilů uspořádanou za sebou spolu s prvním čerpadlem (P1) a iontoměničovou kolonou (29) na okruhu ze třetího tanku (T4) zpět do téhož třetího tanku, třetí soustavu (AV7, AV8, AV2) ventilů uspořádanou za sebou spolu s druhým čerpadlem (P3) a iontoměničovou kolonou (29) na vedení mezi prvním tankem (T1) a třetím tankem (T4), čtvrtou soustavu (AV7, AV6, AV4) ventilů uspořádanou za sebou spolu s druhým čerpadlem (P3) a iontoměničovou kolonou (29) na propojení mezi prvním tankem (T1) a odpadním otvorem (39) vytvářejícím vedení pro deionizovanou vodu určenou k vyplachování iontoměničové kolony (29) v jednom směru, pátou soustavu ventilů (AV5, AV6, AV4) uspořádanou za sebou spolu s druhým čerpadlem (P3) a iontoměničovou kolonou (29) na vedení mezi druhým tankem (T2) a odpadním vývodem (39) a programovaný ovládač (127) pro řízení automatické činnosti zařízení. cze
Souběžný názevApparatus for maintaining a stable bath for an autodeposition composition by periodically separating particular metal ions from the composition
Další system.sel.j.B 01D 015/04 MPT
Další system.sel.j.B 01D 017/12 MPT
Osobní jm.-sekund.oKozak William G. Hatfield (US, PA) p
Osobní jm.-sekund.oTopping Joseph C. North Wales (US, PA) p
Korpor.,akce-sek.o.HENKEL CORPORATION Gulph Mills (US, PA) m
Korpor.,akce-sek.o.PATENTSERVIS PRAHA a.s. Praha 4, Jivenská 1, 14000 z
Zdroj.pův.katalog.CZ ÚPV 20010613
Zdroj.pův.katalog.CZ OLA001 20031107
Sigla,sign.vlastn.OLA001 288388
Počet exemplářů1
Logická bázeB6
Katalogizátor20031107 SVK06 1844
Katalogizátor20060721 SVK06 1401