Katalog Vědecké knihovny v Olomouci -- Způsob sušení povrchu substrátu Procedure applicable for drying substrate surface -- OLA001 291335

Katalog Vědecké knihovny v Olomouci, báze SVK06, záznam 000291335

Navigace: http://aleph.vkol.cz/pub / svk06 / 00029xxxx / 0002913xx / 000291335.htm

Chcete-li získat tento dokument, vstupte přímo do katalogu.
If you want to get more information about the document, enter the online catalog.

Formát	BK
Návěští	-----nam--22--------450-
Identif.č.záznamu	upv000291335
Datum+čas posl.zpr.	20031107
Všeob.údaje zprac.	19960809d2003----km-y0czey0103----ba
Jazyk popisné jedn.	cze
Země vydání dokum.	CZ
Název a odpovědnost	Způsob sušení povrchu substrátu Procedure applicable for drying substrate surface
Nakladatelské údaje	Praha Úřad průmyslového vlastnictví 2003
Obecné poznámky	Datum oznámení zápisu: 19950823
Obecné poznámky	Datum podání přihlášky: 19960809
Obecné poznámky	Datum zveřejnění přihlášky: 20030212
Obecné poznámky	Právo přednosti: DE 1995/19531031
Obecné poznámky	Číslo přihlášky: 1998-517
Anotace, referát	The invention relates to a procedure applicable for drying substrate surfaces of a large number of materials, such as semiconductors, metals, plastics and, in particular, silicon. The substrate, such as a silicon strip (1) is dipped into a liquid bath (2) and then the silicon strip (1) is separated from the liquid (3). The liquid of the bath (2) consists of an aqueous HF solution (3) with a concentration between 0.001 and 50 percent. By adding a gaseous mixture containing Oi2/Oi3 immediately after the drying process is finished, the silicon strip surface is hydrophilized. By adding a gaseous mixture containing Oi2/Oi3 during the drying process, cleaning takes place as the ozone enters the solution on the liquid surface. eng
Anotace, referát	Způsob je použitelný pro sušení povrchů substrátu z velkého množství materiálů, jako jsou polovodičové, kovové, plastové a, zejména, křemíkové materiály. Substrát, jako je křemíkový plátek (1), se ponoří do kapalné lázně (2) a poté se tento křemíkový plátek (1) od kapaliny lázně oddělí. Kapalina lázně (2) sestává z vodného roztoku (3) HF s koncentrací mezi 0,001 a 50 %. Přidáváním plynové směsi obsahující O.sub.2.n./O.sub.3.n. bezprostředně po dokončení sušicího procesu se křemíkový povrch hydrofilizuje. Přidáváním plynové směsi obsahující O.sub.2.n./O.sub.3.n. v průběhu sušicího procesu, probíhá čištění, jak ozón vstupuje do roztoku na povrchu kapaliny. cze
Souběžný název	Procedure applicable for drying substrate surface
Další system.sel.j.	H 01L 021/00 MPT
Další system.sel.j.	H 01L 021/30 MPT
Osobní jm.-sekund.o	Herrmannsdörfer Dieter Mistelgau (DE) p
Osobní jm.-sekund.o	Korejzová Zdeňka Praha 1, Spálená 2911000 z
Osobní jm.-sekund.o	Schellenberger Wilhelm Mistelgau (DE) p
Korpor.,akce-sek.o.	ICTOP ENTWICKLUNGS GMBH Mistelgau (DE) m
Zdroj.pův.katalog.	CZ ÚPV 20030212
Zdroj.pův.katalog.	CZ OLA001 20031107
Sigla,sign.vlastn.	OLA001 291335
Počet exemplářů	1
Logická báze	B6
Katalogizátor	20031107 SVK06 1848
Katalogizátor	20060721 SVK06 1403