Katalog Vědecké knihovny v Olomouci -- Způsob vytváření povlaku obsahujícího oxid křemičitý na horký skleněný substrát a způsob výroby skleněného substrátu s povlakem Process for depositing a silica-containing coating upon a hot glass substrate and process for producing a glass substrate with such a coating -- OLA001 293607

Katalog Vědecké knihovny v Olomouci, báze SVK06, záznam 000293607

Navigace: http://aleph.vkol.cz/pub / svk06 / 00029xxxx / 0002936xx / 000293607.htm

Chcete-li získat tento dokument, vstupte přímo do katalogu.
If you want to get more information about the document, enter the online catalog.

Formát	BK
Návěští	-----nam--22--------450-
Identif.č.záznamu	upv000293607
Datum+čas posl.zpr.	20040617
Všeob.údaje zprac.	19951013d2004----km-y0czey0103----ba
Jazyk popisné jedn.	cze
Země vydání dokum.	CZ
Název a odpovědnost	Způsob vytváření povlaku obsahujícího oxid křemičitý na horký skleněný substrát a způsob výroby skleněného substrátu s povlakem Process for depositing a silica-containing coating upon a hot glass substrate and process for producing a glass substrate with such a coating
Nakladatelské údaje	Praha Úřad průmyslového vlastnictví 2004
Obecné poznámky	Datum oznámení zápisu: 19941014
Obecné poznámky	Datum podání přihlášky: 19951013
Obecné poznámky	Datum zveřejnění přihlášky: 20040616
Obecné poznámky	Právo přednosti: US 1994/323272
Obecné poznámky	Číslo přihlášky: 1997-1101
Anotace, referát	The invented process for depositing a silica-containing coating upon a glass substrate comprises at least one coating process being characterized by directing a precursor mixture including a silane, a radical scavenger gas, oxygen and an inert carrier gas toward and along the surface to be coated and reacting the mixture at or near said one surface to form the silicacontaining coating, the radical scavenger being present in an amount adequate to prevent ignition of the precursor mixture and to selectively regulate the rate of reaction of the precursor mixture; and a second final step characterized by removing the coated glass substrate from the non oxidizing atmosphere and cooling the coated substrate to ambient temperature. The oxygen component of the precursor mixture is molecular oxygen and said radical scavenger gas/silane ratio is between about 3 to 1 and 17 to 1. Further proposed is a process for preparing a glass substrate with a silica-containing coating on the surface thereof, wherein the process comprises the steps of: a) maintaining a glass sheet or glass band substrate at a temperature of at least about 566 degC in a non oxidizing atmosphere; b) directing a gaseous precursor mixture including a silane, a radical scavenger gas, oxygen and an inert carrier gas toward and along said one surface and reacting the mixture at or near said one surface to form the silica containing coating, the radical scavenger being present in an amount adequate to prevent ignition of the precursor mixture and to selectively regulate the rate of reaction of the precursor mixture; and c) removing the coated glass substrate from the non oxidizing atmosphere and cooling the coated substrate to ambient temperature. eng
Anotace, referát	Způsob vytváření povlaku obsahujícího oxid křemíku na skleněném substrátu, obsahuje nejméně jeden povlakovací pochod, při kterém se k povrchu zahřátého skleněného substrátu a podél tohoto povrchu přivádí prekurzorová směs obsahující silan, plyn na bázi sloučeniny nebo sloučenin s vysokou afinitou k přijímání radikálů, označovaný dále jako plyn akceptující radikály, přičemž prekurzorová směs dále obsahuje kyslíkovou složku a inertní nosný plyn. Prekurzorová směs se nechá reagovat na povrchu nebo v jeho blízkosti, takže se ze zreagovaného silanu prekurzorové směsi na substrátu vytváří povlaková vrstva obsahující oxid křemičitý a substrát s povlakovou vrstvou se ochlazuje na teplotu okolí. Kyslíková složka prekurzorové směsi je molekulární kyslík, a plyn akceptující radikály je přítomný v prekurzorové směsi v poměru k silanu od 3:1 do 17:1. Dále je navržen způsob výroby skleněného substrátu s povlakem obsahujícím oxid křemičitý na jeho jednom povrchu, při kterém se substrát ve formě skleněné tabule nebo pásu, přicházející přímo z výrobního pochodu, jímž je substrát zhotovován ze skloviny, udržuje se při teplotě nejméně okolo 566 .degree.C v neoxidační atmosféře a v povlakovacím pochodu se na povrchu substrátu vytváří ze zreagovaného silanu prekurzorové směsi povlaková vrstva obsahující oxid křemičitý a substrát s povlakovou vrstvou se odebírá z neoxidační atmosféry a ochlazuje se na teplotu okolí. cze
Souběžný název	Process for depositing a silica-containing coating upon a hot glass substrate and process for producing a glass substrate with such a coating
Další system.sel.j.	B 32B 017/06 MPT
Další system.sel.j.	C 03C 017/34 MPT
Další system.sel.j.	C 23C 016/00 MPT
Osobní jm.-sekund.o	Soubeyrand Michel J. Holland (US, OH) p
Korpor.,akce-sek.o.	LIBBEY-OWENS-FORD CO. Toledo (US, OH) m
Zdroj.pův.katalog.	CZ ÚPV 20040616
Zdroj.pův.katalog.	CZ OLA001 20040617
Sigla,sign.vlastn.	OLA001 293607
Počet exemplářů	1
Logická báze	B6
Katalogizátor	20040617 SVK06 1136
Katalogizátor	20060721 SVK06 1405